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连续氧化低温制冷机 -150度低温液浴冷阱

简要描述:【无锡冠亚】连续氧化低温制冷机 -150度低温液浴冷阱,冠亚制冷设备制冷温度范围从-150度到-5度,可满足不同制冷温度需求。产品广泛应用于化工、制药、生化、新能源、元器件等行业低温反应领域,制冷速度快,安全可靠。

  • 产品型号:LC-12W
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-02-21
  • 访  问  量:157
详情介绍
品牌冠亚制冷冷冻方式水冷式
应用领域化工,生物产业,电子,制药,汽车


冠亚制冷——低温制冷机(支持非标定制)

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司生产的中型单流体低温冷冻机,

制冷温度范围从-150℃~-5℃,制冷速度快,

用于液体快速制冷,

广泛应用于石化、医疗、制药、生化、冻干、制药等行业




冠亚制冷 冷冻机主要类型

低温冷冻机 :-150℃至-5℃

低温制冷循环器 :-120℃至+30℃

精密冷水机 :+5℃至+50℃

直冷型低温制冷机 :-120℃至-10℃

直冷式超低温制冷机 :-150℃至-110℃





连续氧化低温制冷机 -150度低温液浴冷阱

连续氧化低温制冷机 -150度低温液浴冷阱


  随着科技的飞速发展,半导体行业其制程工艺的要求也越来越高。在这个领域中,高低温冷热循环一体机作为一种高低温的设备,发挥着一定的作用。本文将探讨高低温冷热循环一体机在半导体制程工艺中的应用。

  一、高低温冷热循环一体机的概述

  冠亚制冷高低温冷热循环一体机是一种能够提供稳定高温和低温环境的设备,广泛应用于各种需要准确控制温度的工艺过程中。其工作原理通过温度控制系统,实现了对温度的准确调节和快速响应,从而满足了不同制程工艺对温度的需求。

  二、高低温冷热循环一体机在半导体制程工艺中的应用

  1、薄膜生长:在半导体制程中,高低温冷热循环一体机能够为薄膜生长提供所需的准确温度环境,促进材料的化学反应,从而生长出高质量的薄膜。

  2、热处理:半导体材料在制程过程中需要进行各种热处理,如退火、氧化等。高低温冷热循环一体机能够提供稳定的温度环境,确保热处理过程的顺利进行,提高产品的性能和稳定性。

  3、掺杂工艺:掺杂是半导体制程中的环节之一,通过向材料中引入特定的杂质来改变其电学性质。高低温冷热循环一体机能够为掺杂工艺提供准确的温度控制,确保杂质能够均匀地分布在材料中,从而获得理想的掺杂效果。

  4、清洗与刻蚀:在半导体制程中,需要对材料进行清洗和刻蚀以去除表面的污物和不需要的材料。高低温冷热循环一体机能够为这些工艺提供适当的温度环境,提高清洗和刻蚀的效果。

  综上所述,高低温冷热循环一体机在半导体制程工艺中为各种制程工艺提供了准确的温度控制环境,促进了材料的化学反应和物理变化,从而提高了产品的质量和性能。




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