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反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

简要描述:【无锡冠亚】反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-235
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-03-21
  • 访  问  量:290
详情介绍
品牌冠亚制冷价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

  半导体制造是一个高度复杂的工艺过程,其中恒温器的使用对于确保生产过程的稳定性和产品质量比较重要。半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制生产环境中的温度,为半导体材料的生长、掺杂、刻蚀等工艺步骤提供条件。以下是半导体专用工艺过程恒温器操作中的几个关键注意点:

  1、准确的温度控制:半导体生产过程中,冠亚制冷半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制并维持设定的温度值,通常需要在±0.1℃甚至更小的范围内波动。因此,半导体专用工艺过程恒温器的校准和维护是日常操作中的环节。

  2、快速的响应速度:半导体工艺过程中,温度的快速变化可能导致材料结构的突变,影响产品质量。半导体专用工艺过程恒温器需要具备快速响应的能力,能够在短时间内调整温度至设定值,以应对生产过程中的情况。

  3、良好的热均匀性:半导体专用工艺过程恒温器内的热分布须均匀,以避免产品因温度梯度导致的性能不一致。在设计恒温器时,需要充分考虑热传导、对流和辐射等因素,确保工作区域内的温度分布稳定且均匀。

  4、可靠的措施:半导体生产设备通常运行在高精度和高价值的状态下,半导体专用工艺过程恒温器的安全性能比较重要。这包括过热保护、电源保护、故障报警等功能,以确保在设备出现问题时能够及时切断电源并发出警报,防止设备损坏和生产中断。


反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元


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