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药用辅料制冷加热控温系统 膜分离控温TCU

简要描述:【无锡冠亚】药用辅料制冷加热控温系统 膜分离控温TCU,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-135
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:261
详情介绍
品牌LNEYA/无锡冠亚价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制



无锡冠亚制冷加热控温系统应用介绍


反应釜配套制冷加热控温系统应用:

反应釜配套制冷加热控温系统⼴泛应于⽯油、化⼯、橡胶、染料、医药、⻝品等⽣产型用户和各种科研实验项⽬的研究来完成⼯艺过程的容器。无锡冠亚制冷加热控温系统控温时温度稳定、升降温速率快、可连续稳定运、实时记录反应过程温度。

微通道反应器配套制冷加热控温系统应用:

微通道反应器配套制冷加热控温系统可执不同类型的反应,于微反应丁艺开发及精细化学品合成。无锡冠亚制冷加热控温系统宽温度范围,⾼精度智能温控,单流体控温,需更导热介质稳定⽣产。

新能源汽车制冷加热测试系统应用:

新能源汽⻋业,制冷加热控温系统主要应在测试、检测台架和材料测试等环节。无锡冠亚制冷加热控温系统可同时对多个样品进温度控制,控制系统可记录与导出测试过程中的温度数据,可满⾜⼤部分元件在特定的温度变化条件下测试。

半导体行业制冷加热测试系统应用:

制冷加热控温系统于半导体、LEDLCD、太阳能光伏等领域。芯片、模块、集成电路板、电子元器件等提供准确且快速的环境温度。无锡冠亚制冷加热控温系统是对产品电性能测试、失效分析、可靠性评估的仪器设备。



型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/






药用辅料制冷加热控温系统 膜分离控温TCU

药用辅料制冷加热控温系统 膜分离控温TCU


  随着科技的不断发展,半导体行业对设备性能和温度控制的要求越来越高。射流式制冷加热控温系统作为一种温度控制技术,在半导体行业中得到了广泛应用。然而,在购买此类设备时,需要注意以下几点,以确保选购到适合且可靠的设备。

  1、了解设备性能参数

  射流式制冷加热控温系统的性能参数是决定设备性能的关键因素。购买时需要了解设备的制冷/加热能力、温度控制范围、温度波动性等参数,以确保选购的设备能够满足生产工艺的要求。

  2、考虑设备可靠性

  半导体生产过程中需要温度控制精度高且稳定性好的设备。购买射流式制冷加热控温系统时,需要选择具有高可靠性的设备,如采用品质的材料、加工工艺和严格的质量控制等。此外,了解设备的故障率和使用寿命等信息也是选购时需要考虑的因素。

  3、关注设备适用性

  不同的半导体工艺需要不同的温度控制要求。购买射流式制冷加热控温系统时,需要注意设备的适用性。例如,对于一些需要快速加热或冷却的工艺,需要选择具有快速响应速度的设备;对于一些需要长时间稳定控制的工艺,需要选择具有长时间稳定性的设备。



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