




| 品牌 | LNEYA/无锡冠亚 | 价格区间 | 10万-20万 | 
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,生物产业,石油,制药/生物制药,综合 | 

无锡冠亚冷热一体机典型应用于:
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;
小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制

反应釜配套制冷加热控温系统应用:
反应釜配套制冷加热控温系统⼴泛应用于⽯油、化⼯、橡胶、染料、医药、⻝品等⽣产型用户和各种科研实验项⽬的研究用来完成⼯艺过程的容器。无锡冠亚制冷加热控温系统控温时温度稳定、升降温速率快、可连续稳定运行、实时记录反应过程温度。
微通道反应器配套制冷加热控温系统应用:
微通道反应器配套制冷加热控温系统可执行不同类型的反应,可用于微反应丁艺开发及精细化学品合成。无锡冠亚制冷加热控温系统宽温度范围,⾼精度智能温控,单流体控温,无需更导热介质稳定⽣产。
新能源汽车制冷加热测试系统应用:
新能源汽⻋行业,制冷加热控温系统主要应用在测试、检测台架和材料测试等环节。无锡冠亚制冷加热控温系统可同时对多个样品进行温度控制,控制系统可记录与导出测试过程中的温度数据,可满⾜⼤部分元件在特定的温度变化条件下测试。
半导体行业制冷加热测试系统应用:
制冷加热控温系统应用于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。芯片、模块、集成电路板、电子元器件等提供准确且快速的环境温度。无锡冠亚制冷加热控温系统是对产品电性能测试、失效分析、可靠性评估的仪器设备。

型号  | SUNDI-125 SUNDI-125W  | SUNDI-135 SUNDI-135W  | SUNDI-155 SUNDI-155W  | SUNDI-175 SUNDI-175W  | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W  | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W  | |||||||
介质温度范围  | -10℃~+200℃  | ||||||||||||
控制系统  | 前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器  | ||||||||||||
温控模式选择  | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择  | ||||||||||||
温差控制  | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定  | ||||||||||||
程序编辑  | 可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤  | ||||||||||||
通信协议  | MODBUS RTU 协议 RS 485接口  | ||||||||||||
外接入温度反馈  | PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)  | ||||||||||||
温度反馈  | 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度  | ||||||||||||
导热介质温控精度  | ±0.5℃  | ||||||||||||
反应物料温控精度  | ±1℃  | ||||||||||||
加热功率 kW  | 2.5  | 3.5  | 5.5  | 7.5  | 10  | 15  | |||||||
制冷量 kW  | 200℃  | 2.5  | 3.5  | 5.5  | 7.5  | 10  | 15  | ||||||
20℃  | 2.5  | 3.5  | 5.5  | 7.5  | 10  | 15  | |||||||
-5℃  | 1.5  | 2.1  | 3.3  | 4.2  | 6  | 9  | |||||||
流量压力 max L/min bar  | 20  | 35  | 35  | 50  | 50  | 75  | |||||||
2  | 2  | 2  | 2  | 2  | 2.5  | ||||||||
压缩机  | 海立  | 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机  | |||||||||||
膨胀阀  | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀  | ||||||||||||
蒸发器  | 丹佛斯/高力板式换热器  | ||||||||||||
操作面板  | 7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录  | ||||||||||||
安全防护  | 具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。  | ||||||||||||
密闭循环系统  | 整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。  | ||||||||||||
制冷剂  | R-404A/R507C  | ||||||||||||
接口尺寸  | G1/2  | G3/4  | G3/4  | G1  | G1  | G1  | |||||||
水冷型 W 温度 20度  | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8  | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2  | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4  | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4  | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4  | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4  | |||||||
外型尺寸(水)cm  | 45*65*120  | 50*85*130  | 50*85*130  | 55*100*175  | 55*100*175  | 70*100*175  | |||||||
外形尺寸 (风)cm  | 45*65*120  | 50*85*130  | 55*100*175  | 55*100*175  | 70*100*175  | 70*100*175  | |||||||
隔爆尺寸(风) cm  | 45*110*130  | 45*110*130  | 45*110*130  | 55*120*170  | 55*120*170  | 55*120*170  | |||||||
正压防爆(水)cm  | 110*95*195  | 110*95*195  | 110*95*195  | 110*95*195  | 110*95*195  | 120*110*195  | |||||||
常规重量kg  | 115  | 165  | 185  | 235  | 280  | 300  | |||||||
电源 380V 50HZ  | AC 220V 50HZ 3.6kW  | 5.6kW  | 7.5kW  | 10kW  | 13kW  | 20kW  | |||||||
选配风冷尺寸cm  | /  | 50*68*145  | 50*68*145  | 50*68*145  | /  | /  | |||||||


化学合成原料药车间准确控温系统设备TCU
化学合成原料药车间准确控温系统设备TCU
不同的半导体工艺需要不同的温度控制要求。购买射流式制冷加热控温系统时,需要注意设备的适用性。例如,对于一些需要快速加热或冷却的工艺,需要选择具有快速响应速度的设备;对于一些需要长时间稳定控制的工艺,需要选择具有长时间稳定性的设备。
4、注意设备售后服务
射流式制冷加热控温系统的售后服务同样重要。购买时需要了解供应商是否提供保修期、技术支持、备件供应等方面的服务,以确保在使用过程中遇到问题时能够得到及时解决。此外,了解供应商的信誉和口碑也是选购时需要考虑的因素。
5、考虑设备性价比
在购买射流式制冷加热控温系统时,需要考虑设备的性价比。不同的设备价格差别较大,因此在选购时需要根据实际需求和预算进行权衡。在选择设备时,需要考虑性能、可靠性、适用性、售后服务等因素,以确保选购的设备能够在满足生产工艺要求。
总之,在购买射流式制冷加热控温系统时需要注意以上几点。通过了解设备性能参数、可靠性、适用性、售后服务及性价比等方面的信息,可以选购到适合且可靠的设备,为半导体生产提供稳定的温度控制支持。
