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单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机

简要描述:【无锡冠亚】单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDI-275
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-04-12
  • 访  问  量:108
详情介绍
品牌冠亚制冷价格区间10万-20万
产地类别国产应用领域化工,生物产业,石油,制药,综合

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无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

  随着信息技术的飞速发展,数据中心已成为现代社会中的基础设施。然而,随着数据中心的规模不断扩大,传统的风冷散热方式已难以满足大规模数据中心的散热需求,因此,液冷系统作为一种散热技术,逐渐受到业界的关注和应用。

  一、液冷系统的基本原理与优势

  液冷系统,即使用液体作为冷却介质来降低数据中心设备温度的系统。与传统的风冷散热相比,液冷系统具有更高的热传导效率。这是因为液体在传导热量时,其热阻远低于空气,因此能够更加有效地将设备产生的热量传导至散热器或外部环境。

  二、液冷系统的应用场景

  1、大规模数据中心:随着云计算、大数据等技术的广泛应用,数据中心的规模不断扩大,对散热效率的要求也越来越高。液冷系统能够满足大规模数据中心的散热需求,确保设备稳定运行。

  2、高性能计算领域:高性能计算(HPC)领域对设备的散热性能要求高。液冷系统能够提供稳定的散热环境,确保高性能计算设备的性能得到充分发挥。

  三、液冷系统的挑战与展望

  尽管液冷系统在数据中心领域具有广阔的应用前景,但仍面临一些挑战。例如,液冷系统的设计和维护成本较高,对运行环境的要求也较为严格。此外,液冷系统的安全性问题也需要得到重视。

未来,随着技术的不断进步和成本的降低,液冷系统有望在更多领域得到应用。同时,行业也需要加强液冷系统的研发和创新,提高系统的稳定性和安全性,推动液冷技术在数据中心领域的广泛应用。 




  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机

单一媒介控温TCU智能温控系统 双通道水冷机


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