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集成电路晶圆制造Chiller用于蚀刻装置

简要描述:【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。集成电路晶圆制造Chiller用于蚀刻装置

  • 产品型号:LTS-202
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:603
详情介绍
品牌冠亚制冷冷却方式水冷式
价格区间10万-50万产地类别国产
仪器种类一体式应用领域化工,生物产业,电子,制药,汽车



无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 冠亚制冷 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





集成电路晶圆制造Chiller用于蚀刻装置

集成电路晶圆制造Chiller用于蚀刻装置


  浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller是一种用于冷却半导体的设备,广泛应用于半导体制造工序各种应用场景。以下是浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller的一些常见应用场景:

  1、半导体制造

  在半导体制造过程中,需要使用大量的半导体设备,如晶圆制造设备、封装测试设备等。这些设备在工作时会产生大量的热量,如果热量控制不当,就会影响设备的性能和稳定性。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller可以用于冷却这些设备,保证设备的正常运行和生产效率。

  2、元器件电子设备

  电力电子设备如整流器、逆变器、电源等在工作时会产生大量的热量,如果热量控制不当,就会导致设备故障或性能下降。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller可以用于冷却这些设备,保证设备的正常运行和稳定性。

  3、通信设备

  通信设备如基站、交换机、路由器等在工作时会产生大量的热量,如果热量控制不当,就会影响设备的通信质量和稳定性。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller可以用于冷却这些设备,保证设备的正常运行和稳定性。

总之,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller在各种应用场景中都发挥着一定作用,可以保证设备的正常运行和稳定性,提高生产效率和质量。




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