销售咨询热线:
13912479193
产品中心
首页 > 产品中心 > 元器件高低温测试机 > Chiller > 半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

简要描述:【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

  • 产品型号:LTS-202
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:154
详情介绍
品牌冠亚制冷冷却方式水冷式
价格区间10万-50万产地类别国产
仪器种类一体式应用领域化工,生物产业,电子,制药,汽车



无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 冠亚制冷 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机


  随着半导体行业技术的发展,半导体行业对设备的要求也越来越高。其中,多晶硅刻蚀双通道chiller冷却设备是半导体制造过程中的一种设备,在半导体制造过程中,需要将芯片冷却到低的温度,以确保其性能和稳定性。

  其中,多晶硅刻蚀双通道chiller是一种常见的半导体冷却设备。它通过将冷却剂循环使用,将芯片冷却到所需的温度范围。多晶硅刻蚀双通道chiller的主要功能是提供稳定的温度控制,以确保芯片在制造过程中的稳定性和可靠性。

  在半导体行业中,多晶硅刻蚀双通道chiller的应用非常广泛。它不仅用于制造芯片,还用于制造集成电路、光电子器件和其他半导体器件。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以用于其他领域,如新能源电池电机中进行高低温测试用等。

  在半导体制造过程中,多晶硅刻蚀双通道chiller不仅可以提供稳定的温度控制,还可以减少热噪声和热膨胀等效应,从而提高芯片的性能和稳定性。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以提高生产效率,减少生产成本。

  在选择半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller时,需要考虑多个因素。需要确定所需的冷却功率和温度范围。其次,需要考虑设备的可靠性、稳定性和易用性。另外,需要考虑设备的成本和维护成本。

  总之,半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller是半导体制造过程中的一部分。它可以提供稳定的温度控制,还可以提高生产效率,减少生产成本。因此,选择合适的半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller对于半导体制造企业来说有一定影响。



638245968776937702775.jpg








留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7