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光阻回刻刻蚀双通道chiller 深冷器冷水机

简要描述:【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。光阻回刻刻蚀双通道chiller 深冷器冷水机

  • 产品型号:LTS-202
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:121
详情介绍
品牌冠亚制冷冷却方式水冷式
价格区间10万-50万产地类别国产
仪器种类一体式应用领域化工,生物产业,电子,制药,汽车



无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 冠亚制冷 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
温度范围5℃~40℃
控温精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
内循环液容积4L5L6L8L10L12L20L
膨胀罐容积10L10L15L15L20L25L35L
制冷剂R410A
载冷剂硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷却水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷却水流量at20℃1.5m³/h2m³/h2.5m³/h4m³/h4.5m³/h5.6m³/h9m³/h
电源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
温度扩展通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





光阻回刻刻蚀双通道chiller 深冷器冷水机

光阻回刻刻蚀双通道chiller 深冷器冷水机


半导体专用温控设备(Chiller)主要用于半导体制造过程中准确控制反应室的温度。半导体专用温控设备利用制冷循环和工艺冷却水的热交换原理通过对半导体工艺设备使用的循环液的温度、流量和压力进行控制,以实现半导体工艺制程的控温需求,是集成电路制造过程中的关键设备。

  1、明确应用需求

  要明确冷水机在半导体设备中的应用需求。这包括但不限于设备的功率、冷却能力、运行环境等。在了解这些需求的基础上,才能选择合适的冷水机型号。

  2、考虑制冷量

  顶层介质刻蚀双通道chiller制冷量能够保证设备在短时间内达到预设的温度,并保持温度稳定。因此,在选型时,应关注设备的冷却效率及其与设备负荷的匹配程度。

  3、考虑设备尺寸和重量

  顶层介质刻蚀双通道chiller尺寸和重量也是选型过程中需要考虑的因素。如果设备尺寸过大或重量过重,可能会给安装、移动和维护带来困难。因此,在选型时,应根据实际需求选择合适尺寸和重量的设备。


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